EUVリソグラフィを補完する自己組織化リソグラフィ

基本ピッチ（×1ピッチ）と2倍ピッチ（×2ピッチ）の平行配線パターンをEUVとDSAの組み合わせで形成する。左は原理図。直線状に伸びた共重合高分子は2倍ピッチ、真ん中で折り返した共重合高分子は基本ピッチのパターンとなる。右は試作したパターンの観察像。出典：Intel（クリックで拡大）