EUVリソグラフィを補完する自己組織化リソグラフィ

EUVリソグラフィにDSAリソグラフィを組み合わせることで、配線幅のばらつき（LWR）を45％（2.2分の1）に低減（配線ピッチは26nm）。左は配線ピッチとLWRの関係。右は26nmピッチの平行直線群を形成したパターンの観察像。出典：Intel（クリックで拡大）