EUVリソグラフィを補完する自己組織化リソグラフィ DSAリソグラフィと光リソグラフィで30nmピッチの平行配線パターンを形成したときの、パターン形状の比較。DSAリソグラフィはパターン形状のばらつきが小さい。出典:Intel(クリックで拡大) 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan