TSMCとSamsungのEUV争奪戦の行方 〜“逆転劇”はあり得るか？

図1：2007年2月、リソグラフィの国際学会SPIEにて 出典：EUVの画像はAnthony Yen, ASML, “EUV Lithography and Its Application to Logic and Memory Devices”, VLSI 2020, SC1.5より引用（クリックで拡大）