Lam Researchが打ち立てた金字塔、“1年間メンテナンスフリー”のドライエッチング装置

図14：最先端露光装置EUV（NA0.55） 出典：Anthony Yen, ASML, “EUV Lithography and Its Application to Logic and Memory Devices”, VLSI 2020, SC1.5（クリックで拡大）