EUVスキャナー、出荷は堅調だが稼働率の課題も 左=高いNAによるメリット/右=EUV技術には、装置以外の要素も欠かせない 出典:ASMLジャパン(クリックで拡大) 記事に戻る 村尾麻悠子,EE Times Japan