半導体産業はコロナに負けない！ 製造装置市場の動向を読み解く

図5：ASMLによるEUV露光装置の合計出荷台数 出典：Anthony Yen, ASML, “EUV Lithography and Its Application to Logic and Memory Devices”, VLSI 2020, SC1.5（クリックで拡大）