1nmが見えてきたスケーリング　「VLSI 2020」リポート

図20：NA0.5のEUV露光装置で無機レジストを使ったときの解像度 出典：Anthony Yen, ASML, “EUV Lithography and Its Application to Logic and Memory Devices”, VLSI 2020, SC1.5（クリックで拡大）