1nmが見えてきたスケーリング　「VLSI 2020」リポート

図19：次世代EUV露光装置（NAが0.3から0.55へ） 出典：Anthony Yen, ASML, “EUV Lithography and Its Application to Logic and Memory Devices”, VLSI 2020, SC1.5（クリックで拡大）