1nmが見えてきたスケーリング　「VLSI 2020」リポート

図16：ASMLのEUV露光装置（NXE:3400B）の稼働率 出典：Anthony Yen, ASML, “EUV Lithography and Its Application to Logic and Memory Devices”, VLSI 2020, SC1.5（クリックで拡大）