1nmが見えてきたスケーリング　「VLSI 2020」リポート

図10：メタル配線の形成方法　ダマシンと直接加工 出典：Mauro Kobrinsky, Intel, “On-Die Interconnect Challenges and Opportunities for Future Technology Nodes”, VLSI 2020, SC1.2（クリックで拡大）