シリコン基板上に単結晶巨大磁気抵抗素子を作製 左は直接ウエハー接合後の断面透過顕微鏡像、右は接合後の磁気抵抗を測定した結果 (クリックで拡大) 出典:NIMS、産総研 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan