半導体製造プロセスは継続的な進化を 最小ノードにおける描画の違い。ArF液浸リソグラフィー(右)よりもEUVの方が、配線の描画がクリアだ 画像:Samsung(クリックで拡大) 記事に戻る Yongjoo Jeon(Samsung Electronics),EE Times