窒素注入で低抵抗を実現したトレンチ型SiC-MOSFET

左=「斜め注入」のイメージ図。「吹き付ける角度や量が鍵になる」と三菱電機は説明した/右=開発の成果 出典:三菱電機(クリックで拡大)

左=「斜め注入」のイメージ図。「吹き付ける角度や量が鍵になる」と三菱電機は説明した/右=開発の成果 出典:三菱電機(クリックで拡大)