表面欠陥密度を半減させたSiCエピウエハーを開発 従来の低欠陥グレードSiCウエハー「「ハイグレードエピ」(HGE)と、今回開発した第2世代品(HGE-2G)の比較 (クリックで拡大) 出典:昭和電工 記事に戻る 竹本達哉,EE Times Japan