半導体業界のトレンドは「3次元化」が明確に　VLSI 2019

図6　Area Selective Deposition（ASD）を利用したHKMG 出典：R. Clark, TEL.” Selective and Self-Limited Thin Film Processes for the Atomic Scale Era”, Sunday Workshop1, VLSI2019より引用（クリックで拡大）