半導体業界のトレンドは「3次元化」が明確に VLSI 2019 図5 Self-aligned via(セルフアラインビア) 出典:E. Kessels, Eindhoven Univ. of Tech.” Plasma-Based Selective Atomic Layer Deposition and Etching to Enable 5nm and Beyond Device Technology”, Sunday Workshop1, VLSI2019より引用(クリックで拡大) 記事に戻る 湯之上隆(微細加工研究所),EE Times Japan