VLSIシンポジウム 2019 開催概要を発表 VLSI技術シンポジウム注目論文の概要(2) (クリックで拡大) 出典:VLSIシンポジウム委員会左=GNOIを用いた絶縁耐圧の高いGaN HEMT右=7nm世代技術のEUVによる信頼性改善 記事に戻る 竹本達哉,EE Times Japan