10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか

図7　tCoSFBによるバリアメタルによりCuの微細配線がCo配線より配線抵抗が小さくなることを示した資料 出典：T.Nogami（IBM）「VLSI 2017」の資料より（クリックで拡大）