10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか 図1 Intelの10nmチップの断面電子顕微鏡写真 出典：Intel IEDM2017-674（クリックで拡大） 記事に戻る 湯之上隆（微細加工研究所），EE Times Japan
