メモリセルの制御ゲートをワード線に引き出すステアケース

「トリム（Trim）」技術の概要。右上はステアケースの断面構造。紫色の層が制御ゲート層。右下は、「トリム」技術を利用したステアケースの形成手順。レジストの側壁を削る工程と、ペア薄膜を削る工程を繰り返す。出典：Lam Research（クリックで拡大）