化合物レーザーをシリコンにモノリシック集積する試み(後編)

シリコン基板に「アスペクト比トラッピング」を利用して試作したInGaAs/GaAs分布帰還(DFB)型レーザーの構造。左の写真は、四分の一波長(λ/4)位相シフト構造の電子顕微鏡観察画像。電子ビームリソグラフィとプラズマエッチングによってλ/4シフト構造を形成している。右の図面は、DFBレーザーの鳥瞰図。反射鏡の回折格子(中央から左寄り)と、光結合用の回折格子(右寄り)をGaAs光導波路に形成している。出典:imec(クリックで拡大)

シリコン基板に「アスペクト比トラッピング」を利用して試作したInGaAs/GaAs分布帰還(DFB)型レーザーの構造。左の写真は、四分の一波長(λ/4)位相シフト構造の電子顕微鏡観察画像。電子ビームリソグラフィとプラズマエッチングによってλ/4シフト構造を形成している。右の図面は、DFBレーザーの鳥瞰図。反射鏡の回折格子(中央から左寄り)と、光結合用の回折格子(右寄り)をGaAs光導波路に形成している。出典:imec(クリックで拡大)