3D NANDフラッシュメモリの断面構造と製造工程 3D NANDのメモリセルアレイ製造工程。左は「ゲートファースト」技術、右は「ゲートラスト」技術 (クリックで拡大) 出典:Applied Materials 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan