最大の半導体製造装置市場となった「ドライエッチング」とは 図2：3次元NANDフラッシュのメモリセル形成に必要なドライエッチング工程（クリックで拡大） 記事に戻る 湯之上隆（微細加工研究所） 有門経敏（Tech Trend Analysis），EE Times Japan
