埋め込みMRAMのメモリセルと製造プロセス

埋め込み用MRAMにおける磁気トンネル接合（MTJ）の製造工程。左は磁気トンネル接合（MTJ）の断面を電子顕微鏡で観察した画像と、MTJを形成した多層配線の断面を電子顕微鏡で観察した画像。第5層金属配線（M5）と第6層金属配線（M6）の間にMTJを挿入している。右は磁気トンネル接合（MTJ）を製造する工程のフローチャート。出典：GLOBALFOUNDRIES（クリックで拡大）