東工大、微細化でIGBTのオン抵抗を半減

スケーリングによる各部の寸法およびゲート電圧(Vg)とスケーリングファクター (クリックで拡大) 出典:東京工業大学

スケーリングによる各部の寸法およびゲート電圧(Vg)とスケーリングファクター (クリックで拡大) 出典:東京工業大学