「SEMICON West 2016」、imecが展望する5nm世代の配線技術（後編）

銅とルテニウム、コバルトによる配線抵抗の比較。左はルテニウム（Ru）と銅（Cu）の比較、中央はコバルト（Co）と銅（Cu）の比較。右は配線断面の寸法仕様。imecの講演スライドから（クリックで拡大）