「SEMICON West 2016」、7nm世代以降のリソグラフィ技術(JSR Micro編)

化学増幅型レジストの改良による感度の向上とパターン品質の向上。JSR Microの講演スライドから(クリックで拡大)

化学増幅型レジストの改良による感度の向上とパターン品質の向上。JSR Microの講演スライドから(クリックで拡大)