「SEMICON West 2016」、7nm世代以降のリソグラフィ技術(東京エレクトロン編) 誘導自己組織化(DSA)のパターン形成に与える欠陥の影響。東京エレクトロンの講演スライドから 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan