ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演(5)〜インプリント装置の開発ロードマップ 第2世代機「FPA-1200NZ2C」の外観と概要。目標仕様は、寸法ばらつき(平行な直線群パターン)が1.3nm、所要電力が90kW、設置面積が30m2など (クリックで拡大) 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan