ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（4）〜「パーシャルフィールド」への対処

パーシャルフィールドでレジストが充てんされる様子とウエハー上の位置。左がレジストの動き。4コマの写真で示した。最も左がレジストの滴下直後で、右に向かって時間が進行する。なお数字の％は、露光領域面積の何％をウエハーが占めているかを示す。右はウエハー上におけるパーシャルフィールドの位置（クリックで拡大）