ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（4）〜「パーシャルフィールド」への対処

フルフィールドとパーシャルフィールド。左側はフルフィールド（上）とパーシャルフィールド（下）で充てん時間を1秒としたときにレジストが充てんされる様子（実際の講演は動画が埋め込まれていた）。右側は直径300mmのシリコン・ウエハー全体にインプリント技術でパターンを転写した後に撮影した写真（クリックで拡大）