ナノインプリント開発の進展状況をキヤノンが講演（1）〜低い装置コストが最大の武器

ナノインプリント・リソグラフィの基本的なプロセス。シリコン・ウエハーにレジスト（紫外線硬化樹脂）を塗布し、テンプレートで上から加圧する。テンプレートは、紫外線を透過する性質を備える。テンプレートでレジストを加圧した状態で紫外線を照射し、レジストを硬化させる。これで、硬化されたレジストがパターンとしてウエハー表面に残る。 （クリックで拡大）出典：Canon Nanotechnologies（図面に追加と修正を加えたもの）