ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（4）〜次期主力機「NXE:3350B」の概要

「NXE:3350B」とArF露光装置との重ね合わせ誤差（MMO）の実験結果。2.9nmとまだ製品仕様の2.5nmには達していないものの、改良の余地はある（クリックで拡大）