ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（4）〜次期主力機「NXE:3350B」の概要

「NXE:3350B」による露光実験の結果。ウエハー全面に対するCDU（Critical Dimension Uniformity）は0.6nmと低い（クリックで拡大）