ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（3）〜EUV露光装置の開発史

NXE:3300Bを顧客が評価した結果。左上のグラフは、焦点位置の均一性をウエハー全体にわたって測定したもの。右上のグラフは、装置間の重ね合わせ（オーバーレイ）誤差を測定したもの。左下のグラフは、CDU（Critical Dimension Uniformity）をウエハー全体にわたって測定したもの。上は密集した直線、下は孤立した直線。右下のグラフは、ハーフピッチが18nmの水平な直線群を露光して線幅とCDUを測定した結果（クリックで拡大）