ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表(2)〜開発の進ちょく状況

開発用EUV露光装置「NXE:3300B」による実績データ。左上のグラフは、24時間にウエハーの累積処理枚数が増えていった様子を示したもの。24時間で約1000枚のウエハーを処理できたことが分かる。右上のグラフは、レチクルに対する累積露光回数の推移。NXE:3300Bでは28日間で80万回に達した。前世代のEUV露光装置「NXE:3100」では、80万回に達するまでに約2年を必要とした。左下のグラフは、1週間単位でウエハーの累積処理枚数をまとめたもの。4週間連続で目標枚数に達した。右下のグラフは、稼働時間(アップタイム、青色)と非稼働時間(ダウンタイム、赤色)の比率を日単位で示したもの。黄色の折れ線グラフは、過去7日間の平均稼働率(クリックで拡大)

開発用EUV露光装置「NXE:3300B」による実績データ。左上のグラフは、24時間にウエハーの累積処理枚数が増えていった様子を示したもの。24時間で約1000枚のウエハーを処理できたことが分かる。右上のグラフは、レチクルに対する累積露光回数の推移。NXE:3300Bでは28日間で80万回に達した。前世代のEUV露光装置「NXE:3100」では、80万回に達するまでに約2年を必要とした。左下のグラフは、1週間単位でウエハーの累積処理枚数をまとめたもの。4週間連続で目標枚数に達した。右下のグラフは、稼働時間(アップタイム、青色)と非稼働時間(ダウンタイム、赤色)の比率を日単位で示したもの。黄色の折れ線グラフは、過去7日間の平均稼働率(クリックで拡大)