ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（1）〜ArF液浸の限界

ArF液浸リソグラフィとEUVリソグラフィにおけるステップ数と重ね合わせ（オーバーレイ）回数の推移。上の図はモデルとなったプロセス。左端から3つはArF液浸による28nm世代、20nm世代、10nm世代のモデル。右端はEUVリソグラフィによる7nm世代のモデル（クリックで拡大）