ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術（前編）

露光装置（スキャナー）全体での誤差量（EPE）とその要因別割合。オーバーレイ（重ね合わせ）誤差が大きな割合を占めることが分かる （クリックで拡大）