シリコンの時代は「人類滅亡の日」まで続く(後編) シリコンとゲルマニウムの化合物(SiGe化合物)をソースとドレインに採用したpチャンネルMOSFETの断面写真。Intelが90nm世代で導入したもの(クリックで拡大) 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan