オン抵抗を改善し実装面積も大幅削減、車載向け新型MOSFETを開発

新たに開発したプロセス技術「OptiMOS-T3T(SFET5)」と現行のSFET4技術で製造したMOSFETの特性比較 (クリックで拡大) 出典:インフィニオン

新たに開発したプロセス技術「OptiMOS-T3T(SFET5)」と現行のSFET4技術で製造したMOSFETの特性比較 (クリックで拡大) 出典:インフィニオン