−40〜250℃の温度サイクル試験で1000回達成、SiCパワー半導体向け基板

銅箔を張り付けた従来基板(左)と、新開発の金属セラミック基板との違いの一例 (クリックで拡大) 出典:NEDO、ファインセラミックス技術研究組合、ノリタケ

銅箔を張り付けた従来基板(左)と、新開発の金属セラミック基板との違いの一例 (クリックで拡大) 出典:NEDO、ファインセラミックス技術研究組合、ノリタケ