富士通研究所、従来比3倍の3000原子規模ナノデバイスのシミュレーションに成功

グラフェンと絶縁膜で構成された3030原子からなるナノデバイスの電気特性のシミュレーション結果 （クリックで拡大） 出典：富士通研究所