シリコンMOS量子ドットの大規模化 どう実現するのか(前編) 図1:これらのSi MOS量子ドット構造は、imecの最適化された300mmファブ対応の統合フローを使用して製造されている 出所:imec 記事に戻る Sofie Beyne(imec),EDN