インテル筑波本社で夏期講習を受けてきた（ただしテストなし）

インテルがこれまで開発を進めてきたプロセスルール。45ナノメートルを採用したP1266では、High-kメタルゲートを導入して45年間における半導体の歴史でも画期的な進化とインテルでは評価している（写真＝左）。インテルが進めているプロセスルールのスケジュール。11ナノメートルまではインテルだけで実現可能だという（写真＝中央）。インテルが示したこれからの開発における課題。特に後工程において困難が増している（写真＝右）