絶縁膜の埋め込みと平坦化が、複雑な形状の加工を支える

3D NANDフラッシュメモリの断面構造図と、「絶縁膜の埋め込み（Isolation Fill）」部分（橙色の実線で囲んだ部分、上方は拡大図）。断面図では灰色の細長い柱群（ステアケースとペリフェラル）を取り囲む水色の領域が絶縁膜、拡大図では黄土色の領域が絶縁膜である （クリックで拡大） 出典：Applied Materials