「SEMICON West　2016」、7nm世代以降のリソグラフィ技術（ASML編）

ArF液浸のトリプルパターニングとEUV露光のシングルパターニングをクリチカル寸法24nmの配線パターンで比較した結果。ASMLの講演スライドから （クリックで拡大）