通常のシリコンで高性能「量子ビット」を実装

図1：今回発表した研究で用いた試料の電子顕微鏡写真 （クリックで拡大） 出典：理研背景の黒色の部分はシリコン基板表面で、9本の茶色の配線は、量子ドットを形成するのに使われた金属ゲート電極を示す。中心の水色の小さい2つの丸は量子ドットの形成される位置を、左側の大きい丸は電荷計を示すという。スケールバーは100ナノメートルである。