ニコンが展望する10nm以下のリソグラフィ技術（後編）

最初のロットに続けて2番目のロットを露光したとき（ホットスタート）の実測結果。25枚のウエハーを露光したときのオーバーレイ誤差は「平均値プラス（標準偏差の3倍）」で2.63nmに抑えられている（クリックで拡大）