EUVは本当に実用化できるのか? 193nmフォトリソグラフィは、解像度の面で65nmプロセスが限界だった。それに対し液浸リソグラフィであれば、同じ光源を使用しながら、45nm/40nmプロセスに適用できるほどの精度を実現することができる。出典:ニコン 記事に戻る R. Colin Johnson,EE Times